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半导体级超纯臭氧气体发生器

应用领域:半导体、光伏
技术特点:高浓度、超纯净、深度精细工艺
应用场景:CVD/ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除

采用高浓度、超纯净、深度精细工艺的臭氧实现技术,臭氧被电子工业用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。

青岛国林半导体技术有限公司

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关于: 半导体级超纯臭氧气体发生器

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基本参数

应用领域半导体、光伏
技术特点高浓度、超纯净、深度精细工艺
应用场景CVD/ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除

数据来源: Tekx 新能源光储充供应链库 · 产品信息仅供参考